Mục tiêu phún xạ là vật liệu được sử dụng trong quá trình lắng đọng hơi vật lý (PVD) để lắng đọng các màng mỏng lên chất nền. Nó thường được sử dụng trong các ngành công nghiệp như sản xuất chất bán dẫn, công nghệ hiển thị, pin mặt trời và lớp phủ màng mỏng.
Mục tiêu phún xạ titan, đặc biệt, được sử dụng rộng rãi do tính chất độc đáo của titan và hợp kim của nó. Dưới đây là một số ứng dụng chính:
Sản xuất chất bán dẫn: Mục tiêu phún xạ titan thường được sử dụng trong sản xuất mạch tích hợp, thiết bị bộ nhớ và các linh kiện điện tử khác. Màng titan được sử dụng làm rào cản khuếch tán, lớp bám dính và tiếp xúc điện trong vi điện tử.
Công nghệ hiển thị: Titanium được sử dụng trong sản xuất màn hình phẳng, bao gồm màn hình LCD (màn hình tinh thể lỏng) và OLED (đi-ốt phát sáng hữu cơ). Lớp phủ gốc titan được sử dụng cho các lớp dẫn điện trong suốt, vật liệu điện cực và màng chắn.
Pin mặt trời: Các mục tiêu phún xạ titan được sử dụng trong sản xuất tế bào quang điện và tấm pin mặt trời màng mỏng. Màng titan dioxide (TiO₂) được lắng đọng bằng kỹ thuật phún xạ giúp cải thiện khả năng hấp thụ ánh sáng và nâng cao hiệu suất của pin mặt trời.
Công nghiệp hàng không và ô tô: Mục tiêu titan được sử dụng trong các ứng dụng hàng không vũ trụ và ô tô. Những lớp phủ này mang lại những đặc tính mong muốn như chống mài mòn, ma sát thấp, tản nhiệt và cải thiện hiệu suất sử dụng nhiên liệu.
Cấy ghép y sinh: Titanium được sử dụng rộng rãi trong lĩnh vực y tế do khả năng tương thích sinh học và khả năng chống ăn mòn tuyệt vời. Lớp phủ titan phún xạ được sử dụng trên cấy ghép chỉnh hình, cấy ghép nha khoa và dụng cụ phẫu thuật để thúc đẩy quá trình tích hợp xương, giảm mài mòn và ngăn ngừa các phản ứng bất lợi trong cơ thể con người.
Tổng thể,mục tiêu phún xạ titantìm thấy ứng dụng rộng rãi trong các ngành công nghiệp khác nhau, từ điện tử đến các ứng dụng năng lượng và y sinh. Khả năng tạo màng chính xác, chất lượng cao bằng kỹ thuật phún xạ đã khiến titan trở thành vật liệu có giá trị cho nhiều tiến bộ công nghệ.
