Mục tiêu phún xạ titangiao hàng cho khách ngày 13/12
Tên sản phẩm Mục tiêu tròn titan
Lớp Gr1 Gr2 Gr3 Gr5 (Ti6al4v)
Chỉ tiêu tiêu chuẩn titan: điều kiện kỹ thuật: tuân theo tiêu chuẩn ASTM B34897
Mục tiêu tấm titan: điều kiện kỹ thuật: phù hợp với tiêu chuẩn ASTM B265-93
Thông số kỹ thuật: thông số kỹ thuật: 60/65/95/100 * 30/32/40/45mm
Mục tiêu mảng: (8-25mm * (150-300) mm * (1000-2500) mm
Mục tiêu ống: 70mm * 7mm/10mm
đánh bóng bề mặt có thể được ren
Các tính năng: Nhẹ, chống ăn mòn tuyệt vời, chống ăn mòn, độ bền cao, khả năng chịu nhiệt tốt, độ dẻo tốt, không độc hại, không từ tính, độ bền cơ học tuyệt vời, v.v.
Trạng thái Trạng thái ủ (M) Trạng thái làm việc nóng (R) Trạng thái làm việc nguội (Y) (ủ, phát hiện khuyết tật siêu âm)
Ứng dụng: Được sử dụng trong các thiết bị tách chất bán dẫn, màn hình phẳng, màng điện cực lưu trữ, lớp phủ phún xạ, lớp phủ bề mặt phôi, công nghiệp sơn thủy tinh
Độ tinh khiết là một trong những chỉ số hiệu suất chính của các mục tiêu titan vì độ tinh khiết của mục tiêu có tác động lớn đến hiệu suất của bộ phim. Tuy nhiên, trong các ứng dụng thực tế, các yêu cầu về độ tinh khiết của mục tiêu cũng khác nhau. Các chip silicon hiện có kích thước từ 6 inch đến 8 inch đến 12 inch và chiều rộng dây đã giảm từ 0.5 um xuống 0.25 um, 0.18 um hoặc thậm chí 0.13 um nhờ sự tiến bộ nhanh chóng của ngành công nghiệp vi điện tử. Trước đây, 99,995 phần trăm độ tinh khiết mục tiêu có thể đáp ứng các yêu cầu quy trình của 0.35 um IC, trong khi 99,999 phần trăm hoặc thậm chí 99,9999 phần trăm độ tinh khiết mục tiêu là cần thiết để chuẩn bị các dòng 0.18 um .
Các nguồn ô nhiễm chính đối với các màng lắng đọng là các tạp chất trong chất rắn mục tiêu và oxy và hơi nước trong các lỗ rỗng. Các vật liệu mục tiêu khác nhau có các yêu cầu khác nhau đối với hàm lượng tạp chất khác nhau. Ví dụ, các mục tiêu nhôm nguyên chất và hợp kim nhôm được sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn có các yêu cầu đặc biệt về hàm lượng kim loại kiềm và hàm lượng nguyên tố phóng xạ.
Mục tiêu thường được yêu cầu phải có mật độ cao để giảm độ xốp trong chất rắn mục tiêu và nâng cao hiệu suất của màng phún xạ. Các đặc tính điện và quang học của phim cũng bị ảnh hưởng bởi mật độ mục tiêu bên cạnh tốc độ phún xạ. Bộ phim hoạt động tốt hơn mật độ mục tiêu càng lớn. Ngoài ra, mục tiêu có thể sống sót sau ứng suất nhiệt trong quá trình phún xạ tốt hơn bằng cách trở nên đặc hơn và mạnh hơn. Mật độ cũng là một trong những chỉ số hiệu suất chính của mục tiêu.
